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光學玻璃基渦旋波片超聲波清洗機威固特VGT-1409FH
發(fā)布時間:2025-05-21 15:48:52閱讀:(68)

疑問?光學玻璃基旋渦波片主要清洗的目標是什么:

光學玻璃基渦旋波片在制造和封裝過程中可能殘留以下污染物,超聲波清洗可高效去除:

1、拋光殘留物(如氧化鈰、二氧化硅顆粒)。

2、有機污染物(指紋、油脂、灰塵)。

3、金屬離子或無機鹽(來自加工環(huán)境或化學處理)。

4、臨時保護膜或光刻膠殘留(如用于微結(jié)構(gòu)制作的抗蝕劑)。

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機所具備的清洗優(yōu)勢等技術(shù)功能如下:

相比傳統(tǒng)清洗方法(如手動擦拭、噴淋清洗),威固特VGT-1409FH超聲波清洗機在光學玻璃基渦旋波片生產(chǎn)中具有以下優(yōu)勢:

優(yōu)勢

說明

高效去污

超聲波空化效應(yīng)可深入微米級結(jié)構(gòu),清除頑固顆粒和有機殘留。

均勻清洗

避免人工擦拭造成的局部劃傷或污染不均勻問題。

批量處理

可同時清洗多片波片,提高生產(chǎn)效率。

減少化學溶劑用量

超聲波增強清洗液活性,降低對強酸/堿溶劑的依賴。

可控性強

通過調(diào)整頻率、功率時間優(yōu)化清洗效果,適配不同污染性。

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機推薦技術(shù)參數(shù)(為確保清洗效果并避免損傷):

參數(shù)

推薦范圍

注意事項

頻率

25-40KHZ

低頻(25KHZ)適合去大顆粒,高頻(40KHZ)適合精細清洗,但需避免過高頻率導致微結(jié)構(gòu)共振。

功率密度

30-50W/L

功率過高可能損傷鍍膜或?qū)е虏AП砻嫖⒘鸭y。

清洗時間

1-3分鐘

過長時間可能引發(fā)材料疲勞(尤其對鍍膜波片)。

清洗液

去離子水 + 中性表面活性劑(如5%異丙醇)

避免強酸/堿溶液腐蝕鍍膜或玻璃。

溫度

20-40℃

適當升溫可提升清洗效率,但超過50℃可能影響某些光學膠或鍍層穩(wěn)定性。

威固特VGT-1409FH超聲波清洗機分步清洗流程:

步驟1:預清洗(可選)

目的:去除大顆粒松散污染物,減少超聲波負載。

方法:

用氮氣槍吹掃波片表面。

浸泡于去離子水中,手動搖晃10秒。

步驟2:超聲波主清洗

參數(shù):

清洗液:按污染類型選擇。

功率:8W/L(如10L槽體=80W)。

時間:2分鐘。

操作:

將波片裝入支架,完全浸沒于清洗液(液面高出波片≥2cm)。

啟動超聲波,觀察清洗液流動是否均勻(避免死角)。

步驟3:漂洗

目的:去除清洗液殘留。

方法:

一級漂洗:超純水(電阻率≥18.2 MΩ·cm)中浸泡1分鐘,輕微搖晃。

二級漂洗:流動超純水沖洗30秒(流速1L/min)。

步驟4:干燥

氮氣吹干:

使用0.1μm過濾的氮氣,壓力≤0.2MPa。

從波片中心向外螺旋式吹掃,角度45°(避免液滴殘留)。



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